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光刻原理:集成电路制造中的一种工艺技术,利用光学、化学反应原理和化学物理刻蚀方法,将电路图形转移到单晶或介质层表面,形成有效的图形窗口或功能图形。
随着半导体技术的发展,光刻技术传输图形的尺寸极限已经降低了两三个数量级,并从常规的光学技术发展到电子束、X射线、微离子束、激光等新技术的应用。使用的波长从4000埃扩展到0.1埃。
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